鍍膜靶材是通過(guò)磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡(jiǎn)單說(shuō)的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長(zhǎng)的激光與不同的靶材相互作用時(shí)，會(huì)產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應(yīng)。例如：蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜、鋁膜等。更換不同的靶材（如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。
       金屬鎳主要用于電鍍工業(yè)，鍍鎳的物品美觀、干凈、又不易銹蝕。極細(xì)的鎳粉，在化學(xué)工業(yè)上常用作催化劑。鎳具有磁性，能被磁鐵吸引。而用鋁、鈷與鎳制成的合金，磁性更強(qiáng)了。應(yīng)用領(lǐng)域：鍍膜行業(yè)，電子管柵極，真空爐高溫構(gòu)件，X射線靶材等。